CHO-Ph-PEG-Silane的修饰能力
产品名称:CHO-Ph-PEG-Silane的修饰能力
一、硅烷端(Silane):对羟基表面的强修饰能力
适用表面:
二氧化硅(SiO₂、微球、芯片)
玻璃、玻片
羟基化聚合物、羟基化纳米材料
金属氧化物(TiO₂、Al₂O₃、Fe₃O₄)
修饰特点:
共价键合,极其牢固
硅烷水解 → 硅醇缩合 → 形成 Si–O–Si 或 Si–O–M 键,不可逆、耐冲洗、耐高温。
形成致密单分子层
PEG 结构舒展,不易团聚,可形成均匀自组装单层(SAM)。
修饰条件简单
弱酸性 / 中性水溶液或醇溶液即可水解,室温即可反应。
可调控表面密度
通过浓度、时间、温度控制接枝量。
二、苯甲醛端(CHO-Ph):对生物分子的精准修饰能力
专一反应对象:伯胺 -NH₂
蛋白质
抗体
多肽
氨基修饰核酸 / 适配体
壳聚糖、氨基化材料
优势:
温和反应,不破坏生物活性
pH 5.0–7.4 即可反应,无需高温、无需强催化剂。
形成稳定席夫碱(Schiff base)
可进一步还原为仲胺(更稳定),实现永久固定。
苯环结构带来定位优势
CHO-Ph 比普通脂肪醛反应活性更高、更稳定,不易水解,偶联效率更高。
温馨提示:仅用于科研,不能用于人体实验!wyh

关于我们:
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